У лабораторії з високим рівнем безпеки в Шеньчжені китайські вчені створили прототип машини для виробництва передових напівпровідникових чипів, що використовуються у штучному інтелекті, смартфонах та озброєнні.

Про це повідомляє Reuters.

Прототип завершили на початку 2025 року, він наразі проходить випробування і займає майже весь заводський цех. Над проєктом працювала команда колишніх інженерів голландської компанії ASML, які здійснили реверс-інжиніринг машин для екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV).

Машини EUV застосовують промені екстремального ультрафіолетового світла для травлення схем на кремнієвих пластинах, що дозволяє створювати наддрібні та потужні чипи. Наразі китайський прототип успішно генерує ультрафіолетове світло, проте ще не виготовив робочі чипи.

За оцінками аналітиків і керівництва ASML, Китаю знадобляться ще роки для повної розробки технології. Офіційно уряд ставить за мету виготовити робочі чипи на прототипі до 2028 року, хоча більш реалістичним терміном називають 2030 рік.

Проєкт у Шеньчжені є кульмінацією шестирічної державної ініціативи з досягнення самодостатності в галузі напівпровідників – одного з пріоритетів президента Сі Цзіньпіна. Його реалізацією керує Дін Сюесян, а Huawei координує мережу компаній і науково-дослідних інститутів, у якій задіяні тисячі інженерів.

Наявність деталей від старих машин ASML та таємний характер проєкту свідчать про прагнення Китаю наздогнати Захід у виробництві передових чипів раніше, ніж прогнозували експерти.

Источник: ua.news